導(dǎo)讀：日前，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備公司至純科技在互動(dòng)平臺(tái)表示，目前至純科技28納米節(jié)點(diǎn)全部濕法工藝設(shè)備已認(rèn)證完畢。

  

圖：至純科技

除了28nm工藝節(jié)點(diǎn)之外，上海證券報(bào)告中指出，至純科技14nm及7nm工藝預(yù)計(jì)2022年可供客戶驗(yàn)證，客戶包括中芯國(guó)際、華虹集團(tuán)、長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)、華為、臺(tái)灣力晶等行業(yè)領(lǐng)先者。

2020年至純科技濕法工藝設(shè)備出貨量超過(guò)30臺(tái)，新增訂單5.3億元，增長(zhǎng)211.8%。

“濕法工藝設(shè)備”在晶圓制造產(chǎn)線主要用于有效清洗晶圓表面的顆粒、金屬離子以及一些氧化層等等，在最大程度上去除晶圓上的雜質(zhì)。一般的清洗原理主要分為干式以及濕式兩種，由于濕式的整體工作效率更好，因此國(guó)內(nèi)超過(guò)百分90%的產(chǎn)線均采用濕法設(shè)備。

  

圖：盛美半導(dǎo)體的濕法清洗設(shè)備

至純科技表示，國(guó)內(nèi)目前有三家在濕法工藝設(shè)備端提供中高階濕法制程設(shè)備，分別是至純科技、北方華創(chuàng)和盛美半導(dǎo)體，國(guó)內(nèi)廠商的市場(chǎng)占比在逐年上升中。

同時(shí)，國(guó)內(nèi)大型晶圓廠的新fab已經(jīng)陸續(xù)批量采購(gòu)本土廠商的刻蝕、清洗等工藝設(shè)備。

據(jù)招標(biāo)網(wǎng)統(tǒng)計(jì)，2020年長(zhǎng)江存儲(chǔ)公開(kāi)采招標(biāo)設(shè)備1512臺(tái)，其中北方華創(chuàng)合計(jì)中標(biāo)50臺(tái)，包括成膜設(shè)備4臺(tái)，刻蝕設(shè)備12臺(tái)，退火設(shè)備30臺(tái)，氧化設(shè)備1臺(tái)，爐管1臺(tái)；盛美半導(dǎo)體共計(jì)中標(biāo)11臺(tái)清洗設(shè)備。

2020年華虹無(wú)錫12寸廠合計(jì)采購(gòu)267臺(tái)半導(dǎo)體設(shè)備，其中北方華創(chuàng)中標(biāo)真空烘烤爐等12臺(tái)設(shè)備，盛美半導(dǎo)體中標(biāo)15臺(tái)清洗設(shè)備。